Plasma-resistant member and plasma treatment apparatus using the same
申请(专利)号：
WO1999JP04556
申请日期：
1999-08-24
公开/公告号：
WO0012446A1
公开/公告日期：
2000-03-09
申请(专利权)人：
TOSHIBA CERAMICS CO., LTD.;TOKYO ELECTRON LIMITED;MIYAZAKI, AKIRA;MORITA, KEIJI;NAGASAKA, SACHIYUKI;MORIYA, SYUJI
被引量：
摘要：
A plasma-resistant member used in a reaction chamber of a plasma treating apparatus is formed of a dense alumina sintered product having an average grain size of 18-45 &mgr;m, a surface roughness Ra of 0.8-3.0 &mgr;m and a bulk density of 3.90 g/cmor over.
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