非那西丁的分子印迹-化学发光分析法研究

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作者：

张红鸽，吕九如，何云华，杜建修

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摘要：

本研究发现高锰酸钾可以氧化非那西丁产生弱的化学发光, 而甲醛对这一化学发光反应有较强的增敏作用, 据此建立了高锰酸钾-非那西丁-甲醛化学发光体系. 以甲基丙烯酸为功能单体, 乙二醇二乙酸甲酯为交联剂, 合成了非那西丁的分子印迹聚合物. 以此分子印迹聚合物为分子识别物质, 利用高锰酸钾-非那西丁-甲醛化学发光体系, 结合流动注射分析技术, 建立了测定非那西丁高选择性的分子印迹-化学发光分析方法. 方法的线性范围为 5.0×10-7～5.0×10-5 g/mL, 相关系数为 r=0.990, 检出限为 2×10-7 g/mL. 对 1.0×10-6 g/mL 非那西丁溶液进行 11 次平行测定,相对标准偏差为 2.8%. 此法已用于复方制剂去痛片及尿液中非那西丁的测定, 结果令人满意.

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关键词：

化学发光；分子印迹；非那西丁；高锰酸钾

DOI：

10.3321/j.issn:0567-7351.2005.03.006

被引量：

年份：

2005