Process for depositing an aluminum film on a substrate by thermal vaporization
申请(专利)号：
US13632749A
申请日期：
12/31/1949
公开/公告号：
US2665223
公开/公告日期：
01/05/1954
申请(专利权)人：
NAT RES CORP
被引量：
摘要：
Complete Patent Searching Database and Patent Data Analytics Services.
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