High cleaning silica with low abrasion and method for making same
申请(专利)号：
US2014/027687
申请日期：
20140314
公开/公告号：
WO2014152745A1
申请(专利权)人：
国省代号：
WO
摘要：
Silica materials having high cleaning and low abrasion properties are described, together with methods of making such materials and dentifrice compositions comprising the silica materials.
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