High speed process for coating substrates

阅读量:

29

申请(专利)号:

US19880188036

申请日期:

1988-04-29

公开/公告号:

US4842893A

公开/公告日期:

1989-06-27

申请(专利权)人:

SPECTRUM CONTROL, INC.

发明人:

A YializisDG ShawDS StryckerM Ham

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被引量:

480

摘要:

A high-speed process for coating substrates with thin organic coatings in a vacuum is disclosed and claimed. The process utilizes relatively low boiling, reactive monomers (e.g., polyacrylates) which are flash vaporized, condensed on the substrates and cured, in situ. The resultant cured films are pin-hole free and exhibit excellent adhesion. The process is capable of being run at very high coating and curing speeds, e.g., between 1 and 1000 cm/second.

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2001
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