Polishing composition and polishing method employing it

阅读量:

52

申请(专利)号:

US19990451778

申请日期:

1999-12-01

公开/公告号:

US6139763A

公开/公告日期:

2000-10-31

申请(专利权)人:

FUJIMI INCORPORATED

发明人:

K InaT KitamuraT KamiyaS Suzumura

展开

被引量:

564

摘要:

A polishing composition comprising the following components: (a) an abrasive,(b) an oxidizing agent capable of oxidizing tantalum,(c) a reducing agent capable of reducing tantalum oxide, and (d) water.

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