Polishing composition and polishing method employing it
申请(专利)号:
US19990451778
申请日期:
1999-12-01
公开/公告号:
US6139763A
公开/公告日期:
2000-10-31
申请(专利权)人:
FUJIMI INCORPORATED
被引量:
摘要:
A polishing composition comprising the following components: (a) an abrasive,(b) an oxidizing agent capable of oxidizing tantalum,(c) a reducing agent capable of reducing tantalum oxide, and (d) water.
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